Patent ve Faydalı Model

Eğitim hakkında

Hedef Kitle :Mühendisler, Araştırmacılar, Akademisyenler, Hukukçular, Teknoloji ve inovasyon alanında çalışan profesyoneller, Patent ve fikri mülk haklarıyla ilgilenen bireyler için uygundur. Eğitim İçeriği :Temel KavramlarBuluş, patent ve faydalı model tanımları Patentlenebilirlik kriterleri Patent ve faydalı model arasındaki farklar Patent ve faydalı model başvuru süreçleri Patent Başvuru Unsurları ve Koruma KapsamıTarifname, istemler, teknik resimler Bağımsız ve bağımlı istemler Patent korumasının kapsamı ve sınırları Patent ve Faydalı Model Tescil KriterleriYenilik kriteri Buluş basamağı ve sanayiye uygulanabilirlik Patent ve faydalı model farklılıkları Patent ve Faydalı Model Başvuru SüreciUlusal patent başvurularıUluslararası patent başvuruları (PCT ve EPC sistemleri)Patent inceleme süreci, red ve itiraz mekanizmaları Patent Kullanım ve Koruma StratejileriPatent portföy yönetimi Patent ihlali ve hukuki yönleri Patent ile ticari fayda sağlama yolları

Eğitim bilgileri

Bu içerik Savunma Gelişim platformunda dijital eğitim olarak sunulmaktadır. Eğitim ücretsizdir ve sürekli erişime açık olarak değerlendirilmiştir.

Kimler için uygun?

Hukuk alanında kendini geliştirmek isteyen öğrenciler, yeni mezunlar ve savunma sanayii ekosistemindeki yetkinliklerini artırmak isteyen adaylar için uygundur.

Kariyer Pusulan notu

Sürekli erişime açık dijital eğitim olduğu için başvuru tarihi bulunmaz. Eğitime katılmadan önce Savunma Gelişim sayfasındaki güncel erişim, belge ve içerik bilgileri kontrol edilmelidir.